Buluş, depolama, dikey tarım, askeri tekstil, yalıtım, arıtma, filtrasyon, ambalaj ve nakliye gibi farklı alanlarda kullanım olanağı ve minimum malzeme kullanımı ile yüksek depolama alanlarının elde edilmesini sağlayan, altıgen formlu haznelere sahip bir kumaş yapısı ile ilgilidir. Bunu sağlamak üzere iki kumaş katını oluşturan çözgü (dikey yöndeki) iplikler tek atkı (yatay yöndeki) ipliği ile dokunmaktadır.
Bu kayıt TPMK resmi patent bültenlerinden derlenmiştir ve bilgilendirme amaçlıdır. Güncel hukuki durum (itiraz, devir, hükümsüzlük) için kapsamlı bir sicil incelemesi gerekir. Uzmanlarımızdan kapsamlı patent araştırması isteyin.