Buluş formül (I)?in bileşiği ile ilgili olup burada R' and R" bir hidrojen atomu, formül (IIa)?nın monovalen radikali, veya formül (IIb)?nin monovalen radikalidir ve R' veya R" radikallerinden en azından birinin bir hidrojen olmadığı anlaşılmalıdır ve R' veya R" radikallerinden hiçbiri hidrojen atomu değilse R' ve R"?nin birbiri ile aynı oldukları anlaşılmaldıır. Buluş aynı zamanda bunların hazırlanmasına ilişkin yöntem ve bunların kozmetik ve ilaç olarak kullanımları ile iliglidir.
Bu kayıt TPMK resmi patent bültenlerinden derlenmiştir ve bilgilendirme amaçlıdır. Güncel hukuki durum (itiraz, devir, hükümsüzlük) için kapsamlı bir sicil incelemesi gerekir. Uzmanlarımızdan kapsamlı patent araştırması isteyin.
