Aşağıdaki buluş stoichiometry ve topoloji, üretim süreçleri ve bunların kullanımı için uygulamalar kontrol oluştururlar yönlendirilir. Oluştururlar kontrollü fonksiyonel yan stoichiometry var ve en az bir yüzey Bina adedi ve en az bir alt katman en az bir Bina adedi, yüzey birim bina ve bir karbonil grubu ve en az bir amin grubu taşıyan bir hidrokarbon omurga sahip birimler bina üzerinden kurdu oluşmuştur bir yüzey katman sahip en az bir dendritik motifi içerir; ve en az iki farklı fonksiyonel moieties Bina adedi ve/veya yüzey Bina adedi; Burada fonksiyonel yan stoichiometry numarası ve fonksiyonel moieties türünü gösterir.
Bu kayıt TPMK resmi patent bültenlerinden derlenmiştir ve bilgilendirme amaçlıdır. Güncel hukuki durum (itiraz, devir, hükümsüzlük) için kapsamlı bir sicil incelemesi gerekir. Uzmanlarımızdan kapsamlı patent araştırması isteyin.