Mevcut buluşun düzenlemeleri, şunları içeren, metal bir hedefin bir mikroyapısını saptamaya yönelik bir elektromanyetik sensörü (400) sağlar: bir uyarım manyetik alanı sağlamaya yönelik bir manyetik cihaz (410, 420); metal bir hedef içinde indüklenmiş ortaya çıkan manyetik bir alanı saptamaya yönelik bir manyetometre (430); ve elektromanyetik sensörü kalibre etmek için bir kalibrasyon manyetik alanı oluşturmaya yönelik bir kalibrasyon devresi (450, 551, 552, 553, 554), burada kalibrasyon referans manyetik alanı, uyarım manyetik alanı tarafından kalibrasyon devresinden indüklenen elektriksel bir akım yoluyla oluşturulur.
Bu kayıt TPMK resmi patent bültenlerinden derlenmiştir ve bilgilendirme amaçlıdır. Güncel hukuki durum (itiraz, devir, hükümsüzlük) için kapsamlı bir sicil incelemesi gerekir. Uzmanlarımızdan kapsamlı patent araştırması isteyin.