Mevcut buluş genellikle çapraz bağlı hiyalüronik asidi içeren gelişmiş özelliklere sahip ipliklerle, bu tarz ipliklerin oluşturulması için optimize yöntemlerle ve örneğin estetik uygulamalarda (örn. yüz konturlaması, yumuşak doku büyütme ürünleri), cerrahi (örn. dikişler), ilaç uygulamasında, negatif basınçlı yara tedavisinde, nemli yara sargısında ve benzerinde bunların kullanımları ile ilgilidir.
Bu kayıt TPMK resmi patent bültenlerinden derlenmiştir ve bilgilendirme amaçlıdır. Güncel hukuki durum (itiraz, devir, hükümsüzlük) için kapsamlı bir sicil incelemesi gerekir. Uzmanlarımızdan kapsamlı patent araştırması isteyin.