Buluş, genel formüle (I) sahip bileşiklerle ilgilidir: burada R = H, CH2-OH, CH2-O-CO-CH3, CH2-O-CO-Ph (Ph = fenil) R '= H, CH2-O-CO-CH3, CH2-O-CO-Ph (Ph = fenil) Ar = fenil, 3-metoksi-4-hidroksi fenil, 2-furil. Bunlar, antienflamatuvar etkinlik ile birlikte serbest radikallere karşı antioksidan etkinliğe sahip bileşiklerdir; bileşikler, cilt bakımı için farmasötik dermatolojik veya kozmetik kompozisyonların hazırlanmasında aktif bileşenler olarak faydalıdır.
Bu kayıt TPMK resmi patent bültenlerinden derlenmiştir ve bilgilendirme amaçlıdır. Güncel hukuki durum (itiraz, devir, hükümsüzlük) için kapsamlı bir sicil incelemesi gerekir. Uzmanlarımızdan kapsamlı patent araştırması isteyin.