Bir uygulamada bir apertür plakası üretmeye yönelik bir yöntem, bir substrat üzerine salınabilir bir tohum katmanı yerleştirilmesini; söz edilen salınabilir tohum katmanı üzerine, istenen bir apertür örüntüsüne negatif bir örüntüye sahip olan bir birinci örüntülü fotolitografi maskesi uygulanmasını; söz edilen salınabilir tohum katmanının açıkta kalan ve birinci maske tarafından tanımlanan kısımlarının üzerine bir birinci malzemenin elektrikle kaplanmasını; birinci malzeme üzerine, bir birinci kaviteye negatif bir örüntüye sahip olan bir ikinci fotolitografi maskesinin uygulanmasını; söz edilen birinci malzemenin açıkta kalan ve ikinci maske tarafından tanımlanan kısımlarının üzerine bir ikinci malzemenin elektrikle kaplanmasını; her iki maskenin de atılmasını; ve salınabilir tohum katmanının dağlanarak, söz edilen birinci malzeme ve ikinci malzemenin salınmasını içermektedir. Birinci malzeme ve ikinci malzeme, bir sıvıyı aerosolleştirmede kullanıma yönelik bir apertür plakası oluşturmaktadır. Diğer apertür plakaları ve apertür plakası üretme yöntemleri, diğer uygulamalara göre açıklanmaktadır.
Bu kayıt TPMK resmi patent bültenlerinden derlenmiştir ve bilgilendirme amaçlıdır. Güncel hukuki durum (itiraz, devir, hükümsüzlük) için kapsamlı bir sicil incelemesi gerekir. Uzmanlarımızdan kapsamlı patent araştırması isteyin.