Mevcut buluş, bir maskeleme malzemesini (110) bir substrata (104) uygulamaya yönelik olarak bir sistem (100) sağlar, sistem aşağıdakileri içerir: bir substrata bir miktar maskeleme malzemesi iletmeye yönelik olarak bir kaynak besleme (108), substrattan çıkarıldığında maskeleme malzemesini almaya yönelik olarak bir atık birikintisi (112), substrata göre hareket edebilen bir püskürtme nozülü (106) ve nozülün (106) substrata (104) göre hareketini ve kaynak beslemesinden (108) maskeleme malzemesinin (110) iletim hızını kontrol etmeye yönelik olarak bir kontrolör (116), burada substrata (104) göre püskürtme nozülünün (106) hareket hızı, esas olarak, kaynak beslemesinden (108) maskeleme malzemesinin (110) iletim hızına eşittir.
Bu kayıt TPMK resmi patent bültenlerinden derlenmiştir ve bilgilendirme amaçlıdır. Güncel hukuki durum (itiraz, devir, hükümsüzlük) için kapsamlı bir sicil incelemesi gerekir. Uzmanlarımızdan kapsamlı patent araştırması isteyin.