Buluşun konusu, bir TiSiCN kompozit tabakası ile veya en az bir TiSiCN kompozit tabakasını içeren çok katmanlı bir tabaka sistemi ile kaplanan, metal, sert metal, sermet veya seramikten oluşan sert malzeme kaplı gövdelerdir, burada buluşa göre TiSiCN kompozit tabakası, 5 nm ve 150 nm arasında bir kristalit boyutuna sahip olan TiCxN1-x?den oluşan bir nanokristalin fazı ve amorf SiCxNy?den oluşan bir ikinci fazı içeren, ilave plazma eksitasyonu olmadan termal bir CVD yöntemi aracılığıyla üretilen bir nanokompozit tabakadır. Buluşa göre tabaka, yüksek sertlik, yüksek oksidasyon ve sıcaklık direnci ve ayrıca yüksek bir adezyon mukavemeti ile karakterize edilir. Buluş bu TiSiCN nanokompozit tabakasının üretilmesine yönelik olarak, bir veya daha fazla titanyum halojenüre, bir veya daha fazla silisyum içeren prekürsörlere, hidrojene ve ayrıca karbon ve nitrojen atomlarına ve/veya nitrojen bileşiklerine ve/veya hidrokarbonlara ve/veya inert asal gazlara sahip reaktif bileşikleri içeren bir gaz karışımındaki tabakanın, 700 ° C ve 1100 ° C arasındaki sıcaklıklarda ve 10 Pa ve 101,3 kPa arasındaki basınçlarda ilave plazma eksitasyonu olmadan bir termal CVD prosesi ile biriktirilmesine yönelik bir yöntemi içerir, burada titanyum halojenürlerin ve silisyum içeren prekürsörlerin molar oranı, gaz karışımında Si?nin Ti?ye atom oranının 1?den fazla olacağı şekilde seçilir. Buluşa göre yöntem, bu tür kaplamaların endüstriyel koşullar altında dahi uygun maliyetli bir şekilde üretilmesini sağlar.
Bu kayıt TPMK resmi patent bültenlerinden derlenmiştir ve bilgilendirme amaçlıdır. Güncel hukuki durum (itiraz, devir, hükümsüzlük) için kapsamlı bir sicil incelemesi gerekir. Uzmanlarımızdan kapsamlı patent araştırması isteyin.