Her bir ipliğin durumunun, çift platinin durumunun veya çevredeki bir ortamın değiştiği bir durumda bile bir zemin örme kumaşın ön yüzeyindeki bir yerleştirme ipliğinin çıkıntı yapmasını bastırabilen bir çift platin, çift platini içeren bir yuvarlak örgü makinesi ve çift platini içeren yuvarlak örgü makinesi tarafından bir ikili muflon örme kumaş örmeye yönelik bir örgü yöntemi elde edilmektedir. Bir çift platin (11), ilgili taban kısımları bir yuvarlak örgü makinesinin (1) aynı platin oluğuna (7a) yerleştirilen bir birinci platin (12) ve bir ikinci platinden (13) oluşmaktadır, birinci platin (12), bir yerleştirme ipliği (r), bir bağlantı ipliği (t) ve bir örme ipliğini (k) destekleyen bir üst destek kısmı (12c) ve üst destek kısmından (12c) daha aşağıya yerleştirilmiş bir alt destek kısmı (12b) içermektedir, ikinci platin (13), yerleştirme ipliği ilmeğine (Rr) yerleştirilen bir yerleştirme kısmı (13b) ve yerleştirme ipliğini (r) ve bağlantı ipliğini (t) iten bir ikinci platin kavrama kısmı (13c) içermektedir ve yerleştirme kısmının (13b) bir üst uç yüzeyi (13e), üst destek kısmının (12c) bir üst uç yüzeyinden (12g) daha aşağıya ve alt destek kısmının (12b) bir üst uç yüzeyinden (12h) daha yukarıya yerleştirilmiş bir konumda düzenlenmektedir.
Bu kayıt TPMK resmi patent bültenlerinden derlenmiştir ve bilgilendirme amaçlıdır. Güncel hukuki durum (itiraz, devir, hükümsüzlük) için kapsamlı bir sicil incelemesi gerekir. Uzmanlarımızdan kapsamlı patent araştırması isteyin.
