Belirli örnek uygulamalar, gümüş içerikli (düşük yayıcı) düşük-E kaplamalara yönelik ultra hızlı lazer işlemiyle, bu gibi kaplamalar içeren kaplamalı nesnelerle ve/veya bunlarla bağlantılı yöntemlerle ilgilidir. Düşük yayıcı (düşük-E) kaplama bir alt tabaka (örneğin borosilikat veya soda kireç silika cam) üzerinde oluşturulur ve bu düşük-E kaplama saçtırmalı biriktirme yoluyla biriktirilen en az bir adet gümüş esaslı tabaka içerir ve söz konusu gümüş esaslı tabakaların her biri bir veya daha fazla sayıda dielektrik tabakanın arasına yerleştirilir. Düşük-E kaplama, 30 kW/cm2'den daha yüksek bir enerji yoğunluğuyla 355-500 nm arası bir dalgaboyunda en fazla 10-12 saniye darbe süresiyle uygulanan lazer darbelerine maruz bırakılır. Bu maruz bırakma işlemi, düşük-E kaplamanın sıcaklığının 300 C derecenin üzerine çıkmasından kaçınılarak ve ayrıca (a) söz konusu gümüş esaslı tabakaya ilişkin tane sınırlarını ve söz konusu tabakadaki boşluk kusurlarını, (b) söz konusu gümüş esaslı tabakalardan her birinin kırılma indisini ve (c) henüz yeni biriktirilmiş hâldeki düşük-E kaplamada olduğuna kıyasla düşük-E kaplamanın yayıcılığını azaltacak şekilde gerçekleştirilir.
Bu kayıt TPMK resmi patent bültenlerinden derlenmiştir ve bilgilendirme amaçlıdır. Güncel hukuki durum (itiraz, devir, hükümsüzlük) için kapsamlı bir sicil incelemesi gerekir. Uzmanlarımızdan kapsamlı patent araştırması isteyin.