Seramik tozunun (CP) sıkıştırılmasına yönelik makine ve yöntem olup; bir sıkıştırılmamış seramik tozu (CP) katmanı, bir besleme yönünde (A) bir sıkıştırma cihazının (2) içinden taşınmaktadır; sıkıştırma cihazının (2) aşağı akış tarafında, sıkıştırılmış seramik tozu (KP) katmanının yoğunluğunu algılayan bir algılama cihazı (8) konumlandırılmaktadır; sıkıştırma cihazına (2) beslenen seramik tozunun (CP) miktarı, böylece sıkıştırılmış seramik tozu (KP) katmanının yoğunluğunu düzenlemek amacıyla algılama cihazı (8) tarafından algılananın bir fonksiyonu olarak zaman içinde değiştirilmektedir.
Bu kayıt TPMK resmi patent bültenlerinden derlenmiştir ve bilgilendirme amaçlıdır. Güncel hukuki durum (itiraz, devir, hükümsüzlük) için kapsamlı bir sicil incelemesi gerekir. Uzmanlarımızdan kapsamlı patent araştırması isteyin.