- Düşük koheranslı bir ölçüm optik radyasyon ışını üretmeyi; ölçüm ışınını, malzemeye doğru yönlendirmeyi ve yansıtılan veya yayılan ölçüm ışınını, birinci bir geliş yönünde malzemenin yüzeyinden optik bir interferometrik sensör araçlarına doğru yönlendirmeyi; - düşük koheranslı bir referans optik radyasyon ışını üretmeyi; ve referans ışınını, ölçüm ışınının gelişinin birinci yönüne ilişkin olarak önceden ayarlanmış bir geliş açısında ikinci bir geliş yönü boyunca optik interferometrik sensör düzenlemesine doğru yönlendirmeyi; - ölçüm ışınını ve referans ışınını, sensör düzenlemesinin ortak bir geliş bölgesi üzerine yerleştirmeyi; - geliş bölgesi üzerinde ölçüm ışını ve referans ışını arasındaki girişim saçaklarının bir desenine ait pozisyonun tespit edilmesini; ve - (a) çalışma başlığı ve malzemenin yüzeyi arasındaki mevcut ayrım mesafesi ve önceden belirlenmiş bir nominal ayrım mesafesi arasındaki bir farkın göstergesi olan, geliş bölgesinin bir aydınlatma ekseni boyunca girişim saçaklarının deseninin pozisyonuna dayanarak ölçüm optik yol ile referans optik yol arasındaki optik uzunluktaki bir farkı belirlemeyi içeren; bir takım tezgahının bir işlem başlığı ve bir malzemenin yüzeyi arasındaki ayrım mesafesini belirlemek ve kontrol etmek için bir yöntem ve bir sistem açıklanmaktadır.
Bu kayıt TPMK resmi patent bültenlerinden derlenmiştir ve bilgilendirme amaçlıdır. Güncel hukuki durum (itiraz, devir, hükümsüzlük) için kapsamlı bir sicil incelemesi gerekir. Uzmanlarımızdan kapsamlı patent araştırması isteyin.