Sistem Patent
Patent Başvurusu

C?ok Katmanlı Ve Yu?ksek Yog?unluklu Balistik Tekstil Yapısı Ve U?retim Yo?ntemi

Buluş Özeti

Buluş, geleneksel dokuma tezgahlarında, hiçbir ek önlem olmadan birim alanda doğal olarak yüksek çözgü ve atkı sıklığı sağlayan özel bir örgü yapısı ile balistik ve yüksek mukavemetli tekstil yapıları üretimine yönelik bir yöntem ve yapı sunar. Atkı ipliklerinin n katmanlı, çözgü ipliklerinin (n-1) katmanlı bir dokuma yapısı, ipliklerin katmanlı düzeni ve yerleşim tasarımı sayesinde yüksek yoğunluk ve mukavemet sağlar. Ek yöntemler (değişmeli atkı dizilimi, ısıl işlemle büzülme, çift kademeli tarak sistemi ve laminasyon), bu doğal yüksek sıklığı pekiştirir ve performansı optimize eder. Temel tasarımda 8 atkı ve 7 çözgü katmanı, armürlü dokuma makinelerinin 28 çerçeve sınırına uygun şekilde optimize edilmiştir; ancak örgü mantığı korunarak 4-8 atkı katmanlı yapılar armürlü makinelerde, 9 ve üzeri atkı katmanlı yapılar jakarlı makinelerde üretilebilir. Atkı ipliklerinde Kevlar ve yüksek mukavemetli polyester gibi ipliklerin değişmeli dizilimi, homojen bir yapı sağlar. Laminasyon işlemi (elastomerik modifiye epoksi kaplama veya poliürea kaplama), kumaşın balistik mukavemetini artırır. Buluş, askeri giyim, balistik yelekler, güvenlik ekipmanları ve teknik tekstil uygulamalarında kullanılabilir. TR 2025 008966 A2

IPC Sınıfları
D03D 15/00
Taraflar
Başvuran
Muhammed Eneç
Buluş Sahibi
Muhammed Eneç Hamza Eneç Mücahit Samuk Münir Eneç
Vekil
Ahmet Altın (Öncü Patent Ofisi Ltd. Şti.)

Bu kayıt TPMK resmi patent bültenlerinden derlenmiştir ve bilgilendirme amaçlıdır. Güncel hukuki durum (itiraz, devir, hükümsüzlük) için kapsamlı bir sicil incelemesi gerekir. Uzmanlarımızdan kapsamlı patent araştırması isteyin.