Buluş, yarı iletken, enerji, savunma, biyomedikal, optoelektronik ve nanoteknoloji gibi alanlarda kullanılan fonksiyonel ince film kaplamaların hava ile teması tamamen engellenmiş inert atmosfer koşullarında gerçekleştirilmesini sağlayan ve magnetron saçtırma, e- beam buharlaştırma ile termal buharlaştırma yöntemlerini tek bir platformda birleştirerek metalik, dielektrik ve yarı iletken tabakaların yüksek saflıkta, homojen kalınlıkta ve kontrollü biçimde üretilmesine olanak tanıyan entegre bir PVD (Fiziksel Buhar Biriktirme) sistemine ilişkindir. TR 2025 020031 A2
Bu kayıt TPMK resmi patent bültenlerinden derlenmiştir ve bilgilendirme amaçlıdır. Güncel hukuki durum (itiraz, devir, hükümsüzlük) için kapsamlı bir sicil incelemesi gerekir. Uzmanlarımızdan kapsamlı patent araştırması isteyin.