Film substratı üzerine mürekkep basıldığında aktarılabilirlikteki azalmayı bastıran ve mürekkep ile film substratı arasındaki yapışkanlığı iyileştiren bir basılı madde üretmeye yönelik bir yöntem ve bir basım makinesi sağlanmaktadır. Mevcut buluşun bir basılı madde üretmeye yönelik yöntemi, film yüzeyinde %0.5 ila 10.0 atom nitrojen elementi konsantrasyonuna sahip bir film kullanan ve basımdan sonra bir aktif enerji ışını ile ışınlamayı içeren bir film üzerine mürekkep basarak bir basılı madde üretmeye yönelik bir yöntemdir.
Bu kayıt TPMK resmi patent bültenlerinden derlenmiştir ve bilgilendirme amaçlıdır. Güncel hukuki durum (itiraz, devir, hükümsüzlük) için kapsamlı bir sicil incelemesi gerekir. Uzmanlarımızdan kapsamlı patent araştırması isteyin.