Buluş, nazal septumda yer alan ve burun deliklerinden geniz yoluna kadar uzanan, havanın geçişini ve hava kalitesinin fizyolojik faktörlerle düzenlenmesini sağlayan yapının perforasyonlarında kullanılan greft ve flep tekniklerine ihtiyaç duymadan biyouyumlu materyallerle doğrudan perforasyonun kapatılmasını sağlayan PLA nazal septal greft ile ilgilidir. Nazal septumun burun orta ve uç kısmını dik tutma ve burun desteğini sağlama fonksiyonları dikkate alındığında, perforasyonun çeşitli nedenlerle (operasyon, ilaç kullanımı, dijital travma vb.) oluşması durumunda uygulanan mevcut yöntemlerin yerine perforasyonun kapatılmasını mümkün kılan yapısal bir greft sunmaktadır. TR 2026 003576 A2
Bu kayıt TPMK resmi patent bültenlerinden derlenmiştir ve bilgilendirme amaçlıdır. Güncel hukuki durum (itiraz, devir, hükümsüzlük) için kapsamlı bir sicil incelemesi gerekir. Uzmanlarımızdan kapsamlı patent araştırması isteyin.