Proses ölçümü, ölçülen prosese dayalı olarak çıkış sinyalleri üreten sistemler ve teknikler tarafından gerçekleştirilebilir. Belli uygulamalarda, proses ölçüm sistemleri ve teknikleri, bir manyetik alan oluşturma ve ardışık bir şekilde manyetik alanın yönünü değiştirme yeteneğine sahip olabilir. Sistemler ve teknikler, aynı zamanda, manyetik alanın yönelimi değiştirilirken, bir iletken ve en az iki Wiegand etki iletkeni içeren bir manyetik alan sensörü ile, manyetik alanın en az bir birinci yönelimini algılama kabiliyetine; ve manyetik alanın birinci yönelimi algılandığında, her Wiegand etki iletkeni ile iletkende bir pals üretme kabiliyetine sahip olabilir.
Bu kayıt TPMK resmi patent bültenlerinden derlenmiştir ve bilgilendirme amaçlıdır. Güncel hukuki durum (itiraz, devir, hükümsüzlük) için kapsamlı bir sicil incelemesi gerekir. Uzmanlarımızdan kapsamlı patent araştırması isteyin.