Buluş, yüksek basınç bölgesinin (H), rotatif sızdırmazlık tertibatının (10) bir düşük basınç bölgesine (N) karşı sızdırmaz hale getirilmesi amacıyla bir rotatif sızdırmazlık (24) içeren bir rotatif sızdırmazlık tertibatı (10) ile ilgilidir. Rotatif sızdırmazlık, kauçuk elastik malzemeden meydana gelen bir montaj manşonuna (34) ve bir sızdırmazlık kenarına (44) sahip olan basınçla aktifleştirilebilen en az bir döner sızdırmazlık elemanına (38) sahiptir. Yüksek basınç bölgesi (H) ve düşük basınç bölgesi (N) arasındaki önceden saptanan bir diferansiyel basınç değerinin (PDif) aşılması halinde, sızdırmazlık elemanının sızdırmazlık kenarı, sızdırmaz bir şekilde bir makine kısmının (12, 14) sızdırmazlık yüzeyine (40) karşı dayanmaktadır, böylece kauçuk elastik montaj manşonu üzerinde elastik olarak desteklenen bir destek gövdesi (46) doğrudan yer değiştirmektedir. Önceden saptanan diferansiyel basınç değerinin (PDif) altına düşülmesi halinde destek gövdesi (46); rotatif sızdırmazlık elemanının (38) sızdırmazlık kenarının (44), rotatif sızdırmazlığın (38) sızdırmazlık yüzeyine (40) bir temas yüzeyi baskısı olmaksızın veya büyük ölçüde bir temas yüzeyi baskısı olmaksızın dayandığı veya sızdırmazlık yüzeyinden (40) bir mesafede düzenlendiği, bekleme konumuna geri döneceği şekilde yüksek basınç bölgesinin (H) yönünde geriye doğru eksenel olarak hareket etmektedir. Buna ek olarak buluş, bu tür bir rotatif sızdırmazlık tertibatına (10) yönelik bir rotatif sızdırmazlık (24) ile ilgilidir.
Bu kayıt TPMK resmi patent bültenlerinden derlenmiştir ve bilgilendirme amaçlıdır. Güncel hukuki durum (itiraz, devir, hükümsüzlük) için kapsamlı bir sicil incelemesi gerekir. Uzmanlarımızdan kapsamlı patent araştırması isteyin.