Sistem PatentSistem Patent
Menü
Patent Başvurusu

Sis Hasadı İçin Düşük Maliyetli Yüksek Verimli Yeni Nesil Malzeme

Buluş Özeti

Buluş, sisten su depolamak amacıyla sis hasadında kullanılmak üzere, polimere (tercihen polipropilen (PP)), fumed silika ilave edilmesi, fumed silika eklenmiş polimerin (tercihen polipropilen (PP)) ekstrüder makinesinde film formunda şeritler haline getirilmesi, söz konusu film formunda şeritlerin üzerinde çoklu sayıda delik açılması işlem adımlarını içeren bir malzeme üretim yöntemi ile ilgilidir. TR 2020 10889 A2

IPC Sınıfları
B01D 53/00
Taraflar
Başvuran
T.C. Erciyes Üniversitesi Yeni Doğan Mah. Turhan Baytop Sok. No:1 38280 Talas 38039 Kayseri Türkiye
Buluş Sahibi
İshak Afşin Kariper
Vekil
Meral Bozkaya (Destek Patent A.Ş.)

Bu kayıt TPMK resmi patent bültenlerinden derlenmiştir ve bilgilendirme amaçlıdır. Güncel hukuki durum (itiraz, devir, hükümsüzlük) için kapsamlı bir sicil incelemesi gerekir. Uzmanlarımızdan kapsamlı patent araştırması isteyin.