Sızdırmazlık Düzenlemesi

Buluş, aşağıdakileri içeren bir sızdırmazlık düzenlemesi (10) ile ilgilidir: bir sızdırmazlık boşluğu (18) oluşturarak birbirinden aralıklı düzenlenen ve bir hareket ekseni (16) etrafında birbirlerine göre rotasyonel olarak hareket ettirilebilen bir birinci makine parçası (12) ve bir ikinci makine parçası (14); sızdırmazlık boşluğunun bir düşük basınç tarafından (N) bir akışkan ile basınçlandırılabilen sızdırmazlık boşluğunun (18) yüksek basınç tarafını (H) sızdırmaz hale getirmek için, birinci makine parçasının (12) sızdırmazlık tutma yapısı (24) üzerinde tutulmuş şekilde düzenlenen bir ayak kesitine (22) sahip ve ayak kesitine (22) göre eksenel yönde esnek bir şekilde saptırılabilen ve ön gerdirmeli, sızdırmaz bir şekilde ikinci makine parçasının (14) bir sızdırmazlık yüzeyine (30) temas eden bir sızdırmazlık başlığına (26) sahip bir radyal şaft sızdırmazlık halkası (20). Sızdırmazlık yüzeyi (30) böylece, yüksek basınç tarafına (H) bitişik olan bir birinci sızdırmazlık yüzeyi kesitine (30a) ve buna eksenel yönde bitişik olan ve düşük basınç tarafına (N) bitişik bir ikinci sızdırmazlık yüzeyi kesitine (30b) sahiptir, burada birinci sızdırmazlık yüzeyi kesiti (30a), düşük basınç tarafı (N) yönünde sızdırmazlık tutma yapısından (24) uzağa uzanmaktadır ve hareket ekseni (16) ile dar bir açı (a) oluşturmaktadır, burada, yüksek basınç tarafı (H), önceden belirlenmiş bir sınır çalışma basıncı değerinden (plimit) daha düşük olan bir çalışma basıncı (pw) ile basınçlandırıldığında, sızdırmazlık başlığı, birinci sızdırmazlık yüzeyi kesitine (30a) temas etmektedir, buluşa göre, ikinci sızdırmazlık yüzeyi kesiti (30b), birinci makine parçasının (12) sızdırmazlık tutucu yapısının (24) yönünde radyal olarak düşük basınç tarafı (N) yönünde uzanacak şekilde düzenlenmektedir ve sızdırmazlık başlığı (26) için bir eksenel durdurucu (36) oluşturmaktadır, sızdırmazlık başlığı (26) buna, yüksek basınç tarafı (H), sınır çalışma basıncı değerine (plimit) eşit veya bundan daha büyük bir çalışma basıncı (pw) ile basınçlandırıldığında eksenel yönde sızdırmaz şekilde temas etmektedir.