Sistem Patent
Patent Application

Polyolefin Kompozisyonu ? Geri Dönüştürülmüş Propilen Polimeri İçeren

Invention Abstract

Buluş, geri dönüştürülmüş poliolefin malzemesi içeren ve enjeksiyon kalıplama yöntemiyle ürünlerin imalatında kullanılabilen polimer kompozisyonlarına ilişkindir. Önerilen poliolefin kompozisyonu, kompozisyonun toplam ağırlığı esas alınarak aşağıdaki bileşenleri içerir: A. %5 ila %60 oranında geri dönüştürülmüş polipropilen polimeri, B. %15 ila %75 oranında propilen ve etilen heterofaz kopolimeri, C. %20 ila %25 oranında polipropilen homopolimeri, D. %0,03 ila %0,1 oranında çekirdekleştirici katkı, E. %0,05 ila %0,5 oranında çekirdekleştirici katkı dışındaki bir katkı veya katkı karışımı. Bileşen B ve C?nin eriyik akış hızı (MFR) değerleri aşağıdaki oranları sağlamaktadır: 0,5 MFR_A < MFR_B < 1,5 MFR_A ve 0,4 MFR_A < MFR_C < 0,9 MFR_A. Belirtilen MFR seviyelerine sahip birincil propilen-etilen heterofaz kopolimeri ile birincil polipropilen homopolimerinin geri dönüştürülmüş polipropilen polimerine birlikte ilavesi, enjeksiyon kalıplama sırasında daha iyi işlenebilirlik sağlamakta ve çeşitli ürünlerin ambalajlanması için gerekli darbe dayanımı ve gerilme- basma özelliklerini kompozisyona kazandırmaktadır. Bu özellikler şunlardır: ? 230°C/2,16 kg koşullarında eriyik akış hızı: 20?40 g/10 dk, ? Eğilme modülü: en az 1400 MPa, ? 23°C?de çentikli Izod darbe direnci: en az 4,5 kJ/m². TR 2025 018830 T

IPC Classes
C08L 23/12C08L 23/16C08F 2/44C08J 3/20B22D 18/00B22D 25/06
Parties
Applicant
Publıc Joınt Stock Company "sıbur Holdıng" Vostochnyj Promyshlennyj Rayon, Kvartal 1, No. 6, Stroenıe 30 Tobolsk, Tyumenskaya Oblast, 626150 Rusya Federasyonu
Inventor
Irina Gennadevna Ryzhıkova Stanislav Aleksandrovich Khvostov Olga Viktorovna Kovalenko
Attorney
Ali Çavuşoğlu (Adres Patent Anonim Şirketi)

This record is compiled from official TPMK patent bulletins and is provided for information. The abstract text is as published, in Turkish. The current legal status (opposition, assignment, invalidation) requires a full register review. Ask our experts for a comprehensive patent search.