Aşağıdaki buluş stoichiometry ve topoloji, üretim süreçleri ve bunların kullanımı için uygulamalar kontrol oluştururlar yönlendirilir. Oluştururlar kontrollü fonksiyonel yan stoichiometry var ve en az bir yüzey Bina adedi ve en az bir alt katman en az bir Bina adedi, yüzey birim bina ve bir karbonil grubu ve en az bir amin grubu taşıyan bir hidrokarbon omurga sahip birimler bina üzerinden kurdu oluşmuştur bir yüzey katman sahip en az bir dendritik motifi içerir; ve en az iki farklı fonksiyonel moieties Bina adedi ve/veya yüzey Bina adedi; Burada fonksiyonel yan stoichiometry numarası ve fonksiyonel moieties türünü gösterir.
This record is compiled from official TPMK patent bulletins and is provided for information. The abstract text is as published, in Turkish. The current legal status (opposition, assignment, invalidation) requires a full register review. Ask our experts for a comprehensive patent search.
