Sistem PatentSistem Patent
Menu
Patent Application

Bir Elektriksel İzolasyon Bölgesi Oluşturma Yöntemi

Invention Abstract

Bu buluş; yüksek elektron mobiliteli transistör (YEMT) aygıt için elektriksel izolasyon bölgesi oluşturma yöntemi ile ilgili olup, özellikle; kimyasal ve biyolojik sensör uygulamalarında kullanılan düşük voltaj değerlerinde (0- 10 V) çalışan galyum nitrat (GaN) temelli YEMT aygıtın (6) çevresiyle elektriksel izolasyonunu sağlamak için geliştirilen, geleneksel yöntemlerde karşılaşılan kaçak akım problemini ortadan kaldıran, elektriksel direnç değerini yaklaşık %10^6 oranında arttıran, basit ve pratik işlem adımları içeren plazma işlemi ile elektriksel izolasyon bölgesi (5) oluşturma yöntemi ile ilgilidir. TR 2020 14952 A1

IPC Classes
H01L 29/778H01L 29/205H10L 21/00
Parties
Applicant
Aselsan Bilkent Mikro Nano Tekn San Ve Tic A Ş. Üniversiteler M.Ab-Mikronano Binası 1598 C.Bilkent Atgb No:31 Çankaya Ankara Türkiye
Inventor
Ahmet Toprak Ekmel Özbay Doğan Yılmaz
Attorney
Mine Özçöllü Sanyel (Görüş Patent Marka Ve Tasarım Tic. Ltd. Şti.)

This record is compiled from official TPMK patent bulletins and is provided for information. The abstract text is as published, in Turkish. The current legal status (opposition, assignment, invalidation) requires a full register review. Ask our experts for a comprehensive patent search.